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Integrati Panasonic a 65 nanometri

di Luke Silver, pubblicata il 21 Ottobre 2005, all 10:59 nel canale HT

“Panasonic annuncia l'inizio delle attività di produzione dei primi integrati cn processo produttivo a 65 nanometri su wafer da 300mm di diametro, dedicati a prodotti di elettronica di consumo.”

Tokyo, Ottobre 2005. Panasonic annuncia di aver iniziato la produzione dei primi integrati con processo produttivo a 65 nanometri (0,065 micron), destinati a prodotti di elettronica di consumo, nel nuovo impianto di Uozu, nella prefettura di Toyama in Giappone centrale.

La spedizione di primi LSI a 65 nanometri, che saranno utilizzati nei DVD player di ultima generazione, arriva con due settimane di anticipo rispetto a quanto preventivato. Panasonic è la prima azienda al mondo ad aver iniziato la produzione di massa di integrati con processo produttivo a 65 nanometri.

Caratteristiche dell'impianto

Location: 800 Higashiyama, Uozu, Prefettura di Toyama, Giappone;
Investimento: circa 130 miliardi di yen;
Superficie: circa 23.000 mq (superficie totale: 77.000 mq);
Superficie della Clean Room: circa 12.000 mq;
Attività principale: produzione di LSI per prodotti di elettronica di consumo;
Capacità produttiva: 6.500 wafer al mese (300-mm wafer/65-nm).

 

"Dopo aver conquistato la leadership del mercato consumer con il processo produttivo a 0,13 micron, ora possiamo contare sulla nostra nuova tecnologia nano-scale per la produzione di semiconduttori" ha dichiarato Susumu Koike, Presidente della Semiconductor Company.

La produzione sarà focalizzata su integrati per la produzione di prodotti legati ai supporti ottici, alla TV digitale, alla telefonia, ai supporti di memoria SD memory card ma anche ai sensori d'immagine CCD" ha concluso Susumu Koike.

La nuova fabbrica avrà una capacità produttiva iniziale di 6500 wafer al mese. Il processo produttivo a 65 nanometri farà uso di interconnessioni al rame e garantisce la produzione di integrati con capacità di elaborazione più elevata, minor consumo e minor costo.



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